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半导体 芯片行业超纯水设备
摘要：、详细技术参数;电阻率18MΩ.cm(25℃)全硅2ug/L＞1um微粒数0.1个/L细菌数0.01个/L铜0.2ug/L锌0.2ug/L镍0.1ug/L钠0.5ug/L钾0.5ug/L氯1ug/L硝
半导体 芯片行业超纯水设备
电子 陶瓷 新材料行业超纯水设备
摘要：、详细技术参数;电阻率18MΩ.cm(25℃)全硅2ug/L＞1um微粒数0.1个/L细菌数0.01个/L铜0.2ug/L锌0.2ug/L镍0.1ug/L钠0.5ug/L钾0.5ug/L氯1ug/L硝
电子 陶瓷 新材料行业超纯水设备
锂电池高纯水设备
摘要：、详细技术参数;电阻率18MΩ.cm(25℃)全硅2ug/L＞1um微粒数0.1个/L细菌数0.01个/L铜0.2ug/L锌0.2ug/L镍0.1ug/L钠0.5ug/L钾0.5ug/L氯1ug/L硝
锂电池高纯水设备
半导体 芯片清洗超纯水设备
摘要：、详细技术参数;电阻率18MΩ.cm(25℃)全硅2ug/L＞1um微粒数0.1个/L细菌数0.01个/L铜0.2ug/L锌0.2ug/L镍0.1ug/L钠0.5ug/L钾0.5ug/L氯1ug/L硝
半导体 芯片清洗超纯水设备
防爆型纯水设备
摘要：一、设备选型参考：用途Applications用水指标Water Indicators参考标准Reference standard护肤品、洗发水、染发剂、牙膏生产和各种清洗液生产用纯水Pur
防爆型纯水设备
封闭式软化水设备
摘要：一、产品简述：软化水设备采用美国富莱克或润新阀数字显示多路阀（15吨/H以上大型软化水设备或以气动或电动阀组控制，配套相应的控制系统及检测仪器仪表），按流量或时间进行再生，大型软化水设备流量为15-3
封闭式软化水设备
化工厂超纯水设备
摘要：一、原水水质及水量要求1、要求系统进水量16~20m³/h，才能确保产水量≥12m³/h。2、原水含盐量较稳定，原水电导率设计按照≤800微西门子设计，变化系数K≤1.2，其它指标参考生活饮用水标准。
化工厂超纯水设备
EDI设备
摘要：一、原水水质及水量要求1、要求系统进水量16~20m³/h，才能确保产水量≥12m³/h。2、原水含盐量较稳定，原水电导率设计按照≤800微西门子设计，变化系数K≤1.2，其它指标参考生活饮用水标准。
EDI设备
EDI装置
摘要：一、原水水质及水量要求1、要求系统进水量16~20m³/h，才能确保产水量≥12m³/h。2、原水含盐量较稳定，原水电导率设计按照≤800微西门子设计，变化系数K≤1.2，其它指标参考生活饮用水标准。
EDI装置
制氢机超纯水设备
摘要：一、详细水质参数： 电阻率18MΩ.cm(25℃)全硅2ug/L＞1um微粒数0.1个/L细菌数0.01个/L铜0.2ug/L锌0.2ug/L镍0.1ug/L钠0.5ug/L钾0.5ug/L
制氢机超纯水设备
制氢行业超纯水设备
摘要：一、详细水质参数： 电阻率18MΩ.cm(25℃)全硅2ug/L＞1um微粒数0.1个/L细菌数0.01个/L铜0.2ug/L锌0.2ug/L镍0.1ug/L钠0.5ug/L钾0.5ug/L
制氢行业超纯水设备
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